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消息称三星3nm制程良率大幅提升,已经在开发第二代3nm工艺

发布时间:2023-01-10 11:50   内容来源:IT之家   责任编辑:如思      阅读量:18429   

TSMC 12月29日在台南科学园区举行3nm量产暨工厂扩建仪式,正式宣布开始3nm量产虽然三星早在半年前就开始了N3工艺芯片制造,但似乎由于新采用的GAA,生产良率下降严重

当然,三星也没有坐以待毙此前业内称已与IBM,Silicon Frontline Technology等公司合作提高3nm的成品率,希望为自家手机争取到高通骁龙8 Gen3的部分订单

根据TSMC自己的说法,3纳米和5纳米的产量在开始时基本相同相比之下,三星的3nm GAA刚投产时,良品率只有20%,报废率高得离谱不过最近有消息称三星的3nm良率有了很大的提升,现在已经接近完美了

据韩国《国家商报》报道,三星一名高管在接受采访时表示,与之前困扰的良品率问题相比,三星第一代3nm工艺的良品率已经接近完美,第二代3nm芯片技术正在快速发展另外,之前盛传的90% TSMC的3nm良率过于夸张,实际良率可能在50%以上

据本站报道,TSMC在去年年底开始大规模生产3纳米FinFET芯片Business Next发表的一份报告称,根据专门从事半导体研究的专家的描述,当时TSMC 3nm工艺的成品率估计约为60—70%,在某些情况下可以超过70%

图Unsplash

韩媒进一步指出,三星和TSMC进入3nm工艺时代后,未来3nm工艺将成为代工市场的主流因此,预计到2025年,3nm工艺市场产值将高达255亿美元,超过当时5nm工艺193亿美元的预计产值

市场研究机构TrendForce的调查数据显示,2022年第三季度,在全球代工市场中,TSMC仍以53.4%的市场份额排名第一,而三星排名第二,市场份额仅为16.4%因此,在激烈的市场竞争下,3nm工艺将成为未来两家公司主要竞争的关键

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